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威思曼高壓電源在等離子體領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用
發(fā)布時(shí)間:2022-07-22    來(lái)源:威思曼    瀏覽量:3031

什么是等離子?

等離子體是一種能量高于氣體的物質(zhì)狀態(tài)。一般來(lái)說(shuō),物質(zhì)存在三種狀態(tài):固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)。隨著溫度升高,固體變成液體并變成氣體。

例如,水在結(jié)晶狀態(tài)下變成稱為冰的固體,當(dāng)溫度升高時(shí)變成液態(tài)水,當(dāng)溫度進(jìn)一步升高時(shí)變成稱為水蒸氣的氣體。因此,物質(zhì)所擁有的能量決定了它的物質(zhì)狀態(tài)。

物質(zhì)通常有電子圍繞其原子核移動(dòng)。原子核帶有正電荷,由質(zhì)子和中子組成。相反,由于電子帶負(fù)電荷,它們被庫(kù)侖力吸引到原子核上,并始終圍繞原子核運(yùn)動(dòng)。

然而,當(dāng)氣體的溫度進(jìn)一步升高到大約攝氏幾千度的極高能量狀態(tài)時(shí),圍繞原子核運(yùn)行的電子與原子分離(電離)并變得不穩(wěn)定。這種狀態(tài)是等離子。

在電離和不穩(wěn)定的狀態(tài)下,等離子體會(huì)發(fā)射光和電磁波,并且看起來(lái)會(huì)發(fā)光,因?yàn)樗鼤?huì)釋放能量并試圖返回穩(wěn)定狀態(tài)。此外,電流極易流動(dòng),其特征還在于電子的運(yùn)動(dòng)因電磁力而增加。

雖然等離子體似乎是一種特殊的狀態(tài),但在自然界中卻經(jīng)常被觀察到。雷霆和極光就是其中之一。在工業(yè)上,它還用于制造熒光燈、等離子炬和半導(dǎo)體。


半導(dǎo)體中的等離子體

以下是在半導(dǎo)體制造中使用等離子體的三個(gè)示例。

(1) 等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD)

等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 用于硅半導(dǎo)體制造中的氮化硅膜 (SiN) 和氧化硅膜 (SiO 2 ) 的成膜。

通過(guò)直流(DC)、射頻(RF)電流或微波將供應(yīng)在基板上的原料氣體轉(zhuǎn)化為等離子體,以激活中性激發(fā)粒子。它是一種通過(guò)在基板上引起化學(xué)反應(yīng)并沉積產(chǎn)生的物質(zhì)來(lái)形成薄膜的方法。


等離子化學(xué)氣相沉積

與傳統(tǒng)的熱處理方法(熱CVD法)相比,其特點(diǎn)是能夠在低溫下形成薄膜。因?yàn)樗皇褂眉訜嵫b置,所以它可以處理不平整的基板和復(fù)雜的形狀。

(2) 等離子干法蝕刻

蝕刻是在基材表面雕刻凹槽和圖案的過(guò)程。傳統(tǒng)上,使用使用蝕刻溶液的濕蝕刻方法。然而,近年來(lái),使用蝕刻氣體或離子的干法蝕刻已成為主流。

等離子干法蝕刻是一種通過(guò)用等離子刮擦基板表面來(lái)進(jìn)行蝕刻的技術(shù)。又稱化學(xué)物理蝕刻技術(shù)。

與等離子 CVD 一樣,氣體流到基板表面,氣體變成等離子。此時(shí),離子與基板碰撞,促進(jìn)與等離子體中所含物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)。這使得可以在原子尺度上精確地刮擦基板的表面。

與濕法蝕刻不同,不會(huì)產(chǎn)生廢液,因此除了是清潔的加工方法外,還可以進(jìn)行比濕法蝕刻更精確的加工。

更深的蝕刻也可用于分離半導(dǎo)體芯片,稱為等離子切割。

(3) 等離子清洗

等離子清洗是利用等離子將附著在基板表面的油等有機(jī)物分解、汽化的清洗技術(shù)。除了是一種不使用水或清潔溶液的干燥清潔方法外,它還提供高水平的清潔,不會(huì)留下任何殘留物。

等離子清洗還可以通過(guò)破壞分子鍵并用羥基修飾來(lái)使被處理物體表面親水。在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,它還用于為圖案化的 PDMS(二甲基聚硅氧烷)表面增加親水性,以提高圖案附著力。


等離子化學(xué)氣相沉積


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